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        Chiller制冷技術(shù)為半導體行業(yè)提供解決方案

        簡(jiǎn)要描述:【無(wú)錫冠亞】是一家專(zhuān)注提供高低溫控溫解決方案的設備廠(chǎng)家,公司主要生產(chǎn)高低溫沖擊氣流儀(熱流儀)、chiller、超低溫制冷機、高低溫測試機機、高低溫沖擊箱等各種為通訊、光模塊、集成電路芯片、航空航天、天文探測、電池包氫能源等領(lǐng)域的可靠性測試提供整套溫度環(huán)境解決方案。Chiller制冷技術(shù)為半導體行業(yè)提供解決方案

        • 產(chǎn)品型號:FLTZ-805
        • 廠(chǎng)商性質(zhì):生產(chǎn)廠(chǎng)家
        • 更新時(shí)間:2025-03-12
        • 訪(fǎng)  問(wèn)  量:344
        詳情介紹
        品牌冠亞恒溫冷卻方式水冷式
        價(jià)格區間10萬(wàn)-50萬(wàn)產(chǎn)地類(lèi)別國產(chǎn)
        儀器種類(lèi)一體式應用領(lǐng)域化工,電子/電池,航空航天,汽車(chē)及零部件,電氣

        Chiller制冷技術(shù)為半導體行業(yè)提供解決方案

        Chiller制冷技術(shù)為半導體行業(yè)提供解決方案


        在薄膜沉積工藝中,Chiller系統的性能直接影響到薄膜質(zhì)量和工藝穩定。隨著(zhù)半導體和顯示面板行業(yè)的發(fā)展,對薄膜沉積工藝的溫度控制要求越來(lái)越高。

        一、Chiller系統選型要點(diǎn)

        薄膜沉積工藝對溫度控制有著(zhù)較高的要求。在選型時(shí),首先要準確計算工藝設備的散熱負荷,考慮熱負荷和動(dòng)態(tài)負荷變化。

        溫控精度是選型的關(guān)鍵指標。建議選擇采用PID控制算法的機型,能夠實(shí)現溫度調節。同時(shí),要考慮系統的響應速度,確保能夠快速響應工藝溫度變化。

        水質(zhì)要求也是選型的考慮因素。薄膜沉積工藝通常要求使用超純水作為制冷介質(zhì),因此需要選擇能夠滿(mǎn)足高水質(zhì)要求的Chiller系統。建議選擇配備完善水處理系統的機型,包括去離子裝置和微生物控制設備。

        二、安裝注意事項

        Chiller系統應盡量靠近工藝設備,縮短管路長(cháng)度,減少熱損失。同時(shí)要預留足夠的維護空間,確保日常維護和檢修的便利性。

        管路設計需要考慮熱膨脹和振動(dòng)隔離。建議采用不銹鋼管路,減少腐蝕風(fēng)險。在關(guān)鍵位置安裝膨脹節和減震器,防止熱應力和振動(dòng)對系統的影響。

        電氣安裝要符合相關(guān)規范,確保接地可靠。建議為Chiller系統配置配電柜,并安裝過(guò)載保護和漏電保護裝置??刂凭€(xiàn)路要采用隔離電纜,防止電磁干擾。

        系統調試是安裝的重要環(huán)節之一。首先要進(jìn)行水系統沖洗,確保管路清潔。然后進(jìn)行系統試運行,檢查各部件運行狀態(tài),調整控制參數,確保系統達到設計要求。



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