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        加熱制冷控溫系統

        簡要描述:加熱制冷控溫系統應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進行升降溫、恒溫控制,尤其適合在反應過程中有需熱、放熱過程控制。

        • 產品型號:SUNDI-525W N
        • 廠商性質:生產廠家
        • 更新時間:2024-12-26
        • 訪  問  量:2046
        詳情介紹
        品牌LNEYA/無錫冠亞產地類別國產
        應用領域食品/農產品,化工,能源,制藥/生物制藥,汽車及零部件

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        無錫冠亞冷熱一體機典型應用于:

        高壓反應釜冷熱源動態恒溫控制、雙層玻璃反應釜冷熱源動態恒溫控制、

        雙層反應釜冷熱源動態恒溫控制、微通道反應器冷熱源恒溫控制;

        小型恒溫控制系統、蒸飽系統控溫、材料低溫高溫老化測試、

        組合化學冷源熱源恒溫控制、半導體設備冷卻加熱、真空室制冷加熱恒溫控制



        型號

        SUNDI-125

        SUNDI-125W

        SUNDI-135

        SUNDI-135W

        SUNDI-155

        SUNDI-155W

        SUNDI-175

        SUNDI-175W

        SUNDI-1A10

        SUNDI-1A10W

        SUNDI-1A15

        SUNDI-1A15W

        介質溫度范圍

        -10℃~+200℃

        控制系統

        前饋PID ,無模型自建樹算法,PLC控制器

        溫控模式選擇

        物料溫度控制與設備出口溫度控制模式 可自由選擇

        溫差控制

        設備出口溫度與反應物料溫度的溫差可控制、可設定

        程序編輯

        可編制5條程序,每條程序可編制40段步驟

        通信協議

        MODBUS RTU 協議  RS 485接口

        外接入溫度反饋

        PT100或4~20mA或通信給定(默認PT100)

        溫度反饋

        設備導熱介質 溫度、出口溫度、反應器物料溫度(外接溫度傳感器)三點溫度

        導熱介質溫控精度

        ±0.5℃

        反應物料溫控精度

        ±1℃

        加熱功率 kW

        2.5

        3.5

        5.5

        7.5

        10

        15

        制冷量 kW

        200℃

        2.5

        3.5

        5.5

        7.5

        10

        15

        20℃

        2.5

        3.5

        5.5

        7.5

        10

        15

        -5℃

        1.5

        2.1

        3.3

        4.2

        6

        9

        流量壓力 max

        L/min bar

        20

        35

        35

        50

        50

        75

        2

        2

        2

        2

        2

        2.5

        壓縮機

        海立

        艾默生谷輪/丹佛斯渦旋壓縮機

        膨脹閥

        丹佛斯/艾默生熱力膨脹閥

        蒸發器

        丹佛斯/高力板式換熱器

        操作面板

        7英寸彩色觸摸屏,溫度曲線顯示、記錄

        安全防護

        具有自我診斷功能;冷凍機過載保護;高壓壓力開關,過載繼電器、熱保護裝置等多種安全保障功能。

        密閉循環系統

        整個系統為全密閉系統,高溫時不會有油霧、低溫不吸收空氣中水份,系統在運行中不會因為高溫使壓力上升,低溫自動補充導熱介質。

        制冷劑

        R-404A/R507C

        接口尺寸

        G1/2

        G3/4

        G3/4

        G1

        G1

        G1

        水冷型 W

        溫度 20度

        600L/H

        1.5bar~4bar

        G3/8

        800L/H

        1.5bar~4bar

        G1/2

        1000L/H

        1.5bar~4bar

        G3/4

        1200L/H

        1.5bar~4bar

        G3/4

        1600L/H

        1.5bar~4bar

        G3/4

        2000L/H

        1.5bar~4bar

        G3/4

        外型尺寸(水)cm

        45*65*120

        50*85*130

        50*85*130

        55*100*175

        55*100*175

        70*100*175

        外形尺寸 (風)cm

        45*65*120

        50*85*130

        55*100*175

        55*100*175

        70*100*175

        70*100*175

        隔爆尺寸(風) cm

        45*110*130

        45*110*130

        45*110*130

        55*120*170

        55*120*170

        55*120*170

        正壓防爆(水)cm

        110*95*195

        110*95*195

        110*95*195

        110*95*195

        110*95*195

        120*110*195

        常規重量kg

        115

        165

        185

        235

        280

        300

        電源 380V 50HZ

        AC 220V 50HZ 3.6kW

        5.6kW

        7.5kW

        10kW

        13kW

        20kW

        選配風冷尺寸cm

        /

        50*68*145

        50*68*145

        50*68*145

        /

        /



        加熱制冷控溫系統

        加熱制冷控溫系統

          無錫冠亞射流式加熱制冷裝置廣泛應用于半導體企業、光通訊、高校、研究所等領域,一般為電子元器件行業各種測試提供高低溫的環境,用來比較產品測試前后的材質變化及的減衰程度,射流式加熱制冷裝置專門試驗各種材料耐熱,耐寒的性能。

          射流式加熱制冷裝置試驗各種材料耐熱、耐寒、耐干性能。適合半導體、芯片、元器件等工廠之用。應用于需要快速升/降溫的應用場合,針對PCB板上眾多元器件中的某一單個IC(模塊),將其隔離出來單獨進行高低溫沖擊,而不影響周邊其它器件,對測試機平臺上的IC進行溫度循環/沖擊,對整塊集成電路板提供準確且快速的環境溫度。

          對比于傳統的溫箱,射流式加熱制冷裝置溫度范圍廣,升降溫速率非??焖?,溫控精度高,溫度顯示能力較大,可以時監控被測IC真實溫度,實現閉環反饋,實時調整氣體溫度;升降溫時間可控,可程序化操作、手動操作、遠程控制。

          射流式加熱制冷裝置應用的集成電路的封裝多種多樣,但常見的有金屬外殼,陶瓷外殼,塑料外殼等,有圓型扁平型管腳排列次序一般是從外殼頂部向下看,按逆時針方向讀數,其中一腳為標記附近的腳。


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